В конце 90х годов ученые считали, что глубокая ультрафиолетовая литография (deep-ultraviolet) исчерпает себя в 2003 году. Как мы знаем, этого не случилось. Существующие оптические методы позволяют дальнейшую миниатюризацию кремниевых микрочипов. Ученые из Массачусетского Технологического Института (Massachusetts Institute of Technology, MIT) представили миру 25-нанометровый техпроцесс на основе достаточно простой голографической литографии. В то же время производители работают над еще более сложным, 22-нанометровым техпроцессом – миниатюрные чипы на основе 22 нм уже показала IBM, кипит работа Intel на фабрике в штате Орегон, США. Однако, гиганты индустрии думают в несколько иной плоскости. Техпроцесс от MIT подойдет для производства чипов памяти, солнечных ячеек для соответствующих аккумуляторов и так далее.

Источник igromania.ru